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描述：The HPR-30 is a residual gas analyser configured for analysis of gases and vapours in vacuum processes and for vacuum diagnostics.
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HPR-30真空過程氣體分析系統(tǒng)(Process Gas Analyser)，適用于監(jiān)測(cè)分析殘余氣體和真空工藝過程中的氣體組成及變化。
·簡(jiǎn)潔的桌上型，移動(dòng)推車或控制臺(tái)架結(jié)構(gòu)
·質(zhì)量數(shù)范圍： 1～200 amu(標(biāo)準(zhǔn)配置); 300、510、1000amu可選 ·高靈敏度： 5ppb ·取樣壓力： 10-4mbar～1mbar 標(biāo)準(zhǔn)配置 1mbar～30bar 選配 ·穩(wěn)定性好： 24h以上，小于峰高的±0.5% ·過程控制開關(guān) ·信號(hào)輸入、輸出接口 Hiden HPR-30 Series Process Gas Analysers (1.2 MB) Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1 MB) Partial Pressure Control in Reactive Sputtering (343 KB) |
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